文章基本信息
- 标题：ホホバ外皮酸性キシランの分離と構造
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- 作者：渡辺 敏幸 ; 三石 安 ; 加藤 陽治 等
- 期刊名称：Journal of Applied Glycoscience
- 印刷版ISSN：1344-7882
- 电子版ISSN：1880-7291
- 出版年度：1999
- 卷号：46
- 期号：3
- 页码：281-284
- DOI：10.5458/jag.46.281
- 出版社：The Japanese Society of Applied Glycoscience
- 摘要：
ホホバ外皮のヘミセルロースII画分(24%水酸化カリウム抽出画分)から水不溶性の酸性キシランを分誰し,メチル化分析とキシラナーゼ加水分解物の分析から構造を推定した.酸性キシランの主鎖はD-キシロース残基がβ-1,4結合で直鎖状に結合しており,キシロース残基の約13%に4-0-methyl-α-D-glucopyra-Zosyluronic acidが0-2の位置で側鎖として結合した陦造と推定した.
