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  • 标题:アミノ基に特異的な試薬により修飾したタカアミラーゼAの失活
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  • 作者:小林 幹彦 ; 千葉 養伍 ; 高原 英成
  • 期刊名称:Journal of Applied Glycoscience
  • 印刷版ISSN:1344-7882
  • 电子版ISSN:1880-7291
  • 出版年度:1999
  • 卷号:46
  • 期号:4
  • 页码:449-452
  • DOI:10.5458/jag.46.449
  • 出版社:The Japanese Society of Applied Glycoscience
  • 摘要:

    タカアミラーゼA(TAA)のアミノ基をトリニトロベンゼンスルホン酸,ホルムアルデヒド,ピリドキサール5'-りン酸で修飾し,蛍光試薬のオルトフタルアルデヒド(OPA)の場合と比較した.既報のように,OPAはTAAの強い失活をもたらすが,上記の3種類の試薬ではTAAの強い失活は起こらなかった三HPLCによる分析から,OPAとLys残基との反応はpHとCys残基の存在に依存して大きな差を生じた.これらの結果から,OPAとほかの3種の試薬によるTAAの修飾が異なる応答を示す理由として,Cys残基がOPA反応おいて重要な役割を果たしていることが示唆された.

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