文章基本信息
- 标题：微細加工用レジスト
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- 作者：中村 賢市郎
- 期刊名称：日本写真学会誌
- 印刷版ISSN：0369-5662
- 电子版ISSN：1884-5932
- 出版年度：2003
- 卷号：66
- 期号：4
- 页码：376-383
- 出版社：The Society of Photographic Science and Technolgy of Japan
- 摘要：リソグラフィーに利用されるレジストには感度, 解像力, 対エッチング性, 透明性など多くのレジスト特性が要求される. ナフトキノンジアジド型レジストは, 特に優れた対エッチング性のためにUVレジストとして長く使用されたが, 化学増幅型レジストの出現と共に, 新しいレジストにその座を譲つている. レジストの改造性の向上のためには使用光源波長を短波長化する必要があり, そのためエキシマーレーザーを使用したリソグラフィーが急速に発展している. 化学増幅レジストは応用範囲が広く, 200nm以短のどのレーザーリソグラフィーにも使用できる. ArF (193nm) のレジストの実用上の問題はほぼ解決されているが, F2 (167nm) レジストには, 高解像性を実現するために, 透明性の確保と対ドライエッチング耐性の達成が要求されているが完全にはまだそれらが解決されていない. しかしその解決の方向性が示され, EUV (13nm) までも指向されている. ここではこれら分野で使用される微細加工用レジストについて概説する.
