最近, 日立中研では, 電子線ホログラフィー技術の実用化に成功し, その再生系に干渉顕微鏡法を導入することにより, ミクロ領域の空間磁界を観察する手法を開発した.今回, これを磁気記録状態の観察に応用して, 記録ビット問の遷移領域における磁化の分布状態を明らかにし, また, Co薄膜で170kBPIの高密度面内飽和記録を確認した.