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文章基本信息

  • 标题:ゼラチンの化学修飾による物理抑制性の変化
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  • 作者:鈴木 啓仁 ; 森多 浩三 ; 西尾 敏一
  • 期刊名称:日本写真学会誌
  • 印刷版ISSN:0369-5662
  • 电子版ISSN:1884-5932
  • 出版年度:1995
  • 卷号:58
  • 期号:1
  • 页码:25-30
  • DOI:10.11454/photogrst1964.58.25
  • 出版社:The Society of Photographic Science and Technolgy of Japan
  • 摘要:

    ゼラチンの官能基の物理抑制性に対する影響の検討を行った。官能基はゼラチンの化学修飾により変化させた。すなわち, アミド化反応によりカルボキシル基を減少させ, フェニルカルバミル化, フタル化, トリメリト化によりアミノ基を減少, カルボキシル基を増加させた。 物理抑制度はアミド化率の上昇 (カルボキシル基の低下) に伴い上昇し, カルボキシル基の上昇に伴い低下した。また, フェニルカルバミル化によるアミノ基の低下に伴い物理抑制度は若干上昇を示した。これに伴いカルシウムイオンの物理抑制作用も変化した。

  • 关键词:ゼラチン; 物理抑制度; 化学修飾; 限外濾過
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