我々はトリフェニルアセトニトリルのシクロヘキサン溶液を酸素および窒素雰囲気中で光照射し, 生じた光分解反応生成物を分離精製し, 機器分析により構造決定した。 酸素雰囲気中における光分解反応生成物は, 2-ビフェニリル-フェニルアセトニトリル, シアノフェニル-ジフェニルメタンおよびビフェニルであった。窒素雰囲気中の光分解反応生成物は酸素雰囲気中で既に得られた化合物の構造と良く一致し, その収率もビフェニルを除きほゞ同じであった。 光分解反応の生成過程を調べるために, 得られた光分解反応生成物を再び光照射し, それら生成物問の反応順位をUV吸収スペクトルより調べた。さらに, 薄層クロマトスキャナーにより反応過程の途中で生づる生成物を追跡した。その結果, TPANの光分解反応の過程は二つの生成物の系列で同時的に反応が進行する並列的な反応過程が推定された。