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  • 标题:低pH造核系におけるミクロ現像抑制技術の開発
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  • 作者:安田 庄司 ; 江副 利秀 ; 谷口 雅彦
  • 期刊名称:日本写真学会誌
  • 印刷版ISSN:0369-5662
  • 电子版ISSN:1884-5932
  • 出版年度:2003
  • 卷号:66
  • 期号:2
  • 页码:179-185
  • DOI:10.11454/photogrst1964.66.179
  • 出版社:The Society of Photographic Science and Technolgy of Japan
  • 摘要:

    富士写真フイルムは印刷製版分野において, 高画質で, 処理廃液を低減した低pH造核系の「INTEGRAシステム」を1995年に開発した. このINTEGRAシステムには, 高pH造核系 (現像液pH11.9) のSUPER GRANDEX システムにおけるS-FAの様な高画質撮影感光材料がなく, このラインアップが市場から強く望まれていた. そのためには, 技術上, 低pH造核系 (現像液pH10.6) におけるミクロ抑制技術の開発が必要であった. 今回, 低pH処理においても高活性なDIR-Hzと造核現像抑制を受けやすい造核システムの導入により, 低pH造核系におけるミクロ抑制技術を開発したのでここに報告する.またこのミクロ抑制技術を用いて製品化したINTEGRAシステム用高画質撮影感光材料YSの性能についても述べる.

  • 关键词:ミクロ現像抑制技術; DIRヒドラジン; 造核剤; 造核促進剤
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