文章基本信息
- 标题：トリチオシアヌル酸高分子膜の光解重合とパターン形成
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- 作者：山田 勝実 ; 占部 茂治
- 期刊名称：日本写真学会誌
- 印刷版ISSN：0369-5662
- 电子版ISSN：1884-5932
- 出版年度：2006
- 卷号：69
- 期号：3
- 页码：205-207
- DOI：10.11454/photogrst1964.69.205
- 出版社：The Society of Photographic Science and Technolgy of Japan
- 摘要：
あらかじめ電極上に電解重合されたトリチオシアヌル酸高分子膜をトリス (2, 2'-ビピリジル) ルテニウム錯体とメチルビオローゲンを含む水溶液に浸し, 可視光照射が行われた. その結果, トリチオシアヌル酸高分子膜の光照射部分だけが解重合により電極上から除去された.
- 关键词：ジスルフィド高分子; 光解重合; 光誘起電子移動; パターン形成; イオン交換膜
