摘要：Se analiza la simulación de un patrón de interferencia muy conocido en la Física General, específicamente en la óptica ondulatoria, obtenido con el dispositivo de Young de la doble abertura. La simulación permite comparar los patrones de interferencia que se obtienen con cuatro fuentes de luz, así como la dependencia de estos patrones con la separación entre las dos rendijas y con la distancia entre las pantallas.A diferencia de otras simulaciones similares, públicas en Internet, la que aquí se describe fue diseñada en el Departamento de Física de la UCLV, insertada dentro SIDEF y permite realizar mediciones precisas de las posiciones lineales de máximos o mínimos de interferencia, con un micrómetro ocular muy similar a los que se encuentran en los laboratorios reales, y por tanto permite aplicar la teoría de errores en el procesamiento de las mediciones y expresar los resultados por intervalos de confianza.
关键词：Física General; óptica ondulatoria; laboratorio virtual; simulaciones de patrón de interferencias
