文章基本信息
- 标题：Damage-free plasma etching of porous organo-silicate low-k using micro-capillary condensation above −50 °C
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- 作者：R. Chanson ; L. Zhang ; S. Naumov 等
- 期刊名称：Scientific Reports
- 电子版ISSN：2045-2322
- 出版年度：2018
- 卷号：8
- 期号：1
- 页码：1886
- DOI：10.1038/s41598-018-20099-5
- 语种：English
- 出版社：Springer Nature
- 摘要：loss occurs principally through Si-C dissociation by VUV photons.
