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  • 标题:Efeito da aplicação de silício na germinação de sementes de pimenta sob estresse salino
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  • 作者:Carla Medianeira Giroletta dos Santos ; Viviane Wruck Trovato ; Adriana Morais do Nascimento Matos
  • 期刊名称:Research, Society and Development
  • 电子版ISSN:2525-3409
  • 出版年度:2020
  • 卷号:9
  • 期号:8
  • 页码:1-14
  • DOI:10.33448/rsd-v9i8.5442
  • 出版社:Grupo de Pesquisa Metodologias em Ensino e Aprendizagem em Ciências
  • 摘要:O objetivo do presente estudo foi de avaliar a germinação de sementes de Naga Jolokia (Capsicum chinense Jacq.) sob estresse salino com efeito da aplicação de doses de silício. O delineamento experimental utilizado foi inteiramente ao acaso, com nove tratamentos (doses de cloreto de sódio associados com Silício) e quatro repetições, constando de 36 unidades experimentais. Para o estresse salino foi empregado concentrações de cloreto de sódio nas doses de 0; 3,5 e 4,5 dS m-1, e como fonte de silício utilizou-se dióxido de silício, sendo aplicadas as seguintes doses: 0, 30 e 60 g de silício 100 kg sementes-1. As variáveis analisadas foram plântulas anormais, plântulas mortas, germinação, índice de velocidade de germinação, comprimento da parte aérea e de raiz e massa fresca e seca. Os resultados da análise de variância evidenciaram diferença significativa para os tratamentos (P>0,05), para as variáveis plântulas anormais, plântulas mortas, germinação, índice de velocidade de emergência e massa seca de plântula, indicando efeito positivo da aplicação do silício, concluindo que condições de elevada salinidade, influenciam de forma negativa as variáveis observadas, porém, nos tratamentos com salinidade a adição de silício ajuda a atenuar o estresse na planta.
  • 其他摘要:The aim of the present study was to evaluate the germination of Naga Jolokia seeds (Capsicum chinense Jacq.) Under salt stress with the effect of applying silicon doses. The experimental design used was entirely random, with nine treatments (doses of NaCl associated with Silicon) and four replications, consisting of 36 experimental units. For salt stress, sodium chloride concentrations were used at doses of 0; 3.5 and 4.5 dS m-1, and silicon dioxide was used as the source of silicon, with the following doses being applied: 0, 30 and 60 g of silicon 100 kg seeds-1. The analyzes performed were abnormal seedlings, dead seedlings, germination, germination speed index, shoot and root length and fresh and dry mass. The results of the analysis of variance showed a significant difference for treatments (P>0.05), for abnormal seedlings, dead seedlings, germination, emergence speed index and seedling dry mass, indicating a positive effect of silicon application, concluding that conditions of high salinity, negatively influence the observed variables, however, in treatments with salinity the addition of silicon helps to attenuate the stress in the plant.
  • 关键词:Capsicum chinense Jacq; Naga Jalokia; Salinity.
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