文章基本信息
- 标题：Technology of EB Lithography System for 65-nm Node Mask Writing
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- 作者：Hajime Kawano ; Yasuhiro Kadowaki ; Kazuyoshi Oonuki 等
- 期刊名称：Hitachi Review
- 印刷版ISSN：0018-277X
- 出版年度：2005
- 卷号：54
- 期号：1
- 出版社：Hitachi Ltd
- 关键词：electron beam; lithography; proximity effect; OPC; SAN
