首页    期刊浏览 2024年11月27日 星期三
登录注册

文章基本信息

  • 标题:DUV Optical Wafer Inspection System for 65-nm Technology Node
  • 本地全文:下载
  • 作者:Kenji Watanabe ; Shunji Maeda ; Tomohiro Funakoshi
  • 期刊名称:Hitachi Review
  • 印刷版ISSN:0018-277X
  • 出版年度:2005
  • 卷号:54
  • 期号:1
  • 出版社:Hitachi Ltd
  • 关键词:wafer inspection; defect inspection; bright field; optical inspection; DUV laser
国家哲学社会科学文献中心版权所有