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文章基本信息

  • 标题:CD-SEM Technologies for 65-nm Process Node
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  • 作者:Atsuko Yamaguchi ; Ryo Nakagaki ; Hiroki Kawada
  • 期刊名称:Hitachi Review
  • 印刷版ISSN:0018-277X
  • 出版年度:2005
  • 卷号:54
  • 期号:1
  • 出版社:Hitachi Ltd
  • 关键词:CD-SEM; precision; repeatability; line edge roughness; line width roughness
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