摘要：Los patrones periódicos múltiples por interferencia de luz son un problema complicado desde un punto de vista experimental. En este trabajo reportamos un modelo teórico de incidencia de N haces de luz sobre un punto en el espacio. Dos componentes del campo eléctrico son proyectados: azimutal (ángulo formado con la proyección del vector en el espacio sobre el plano x-y ) y zenital (ángulo del vector incidente con el eje z ). En consecuencia, encontramos la intensidad azimutal y zenital. Analizamos el caso de amplitud fraccional o número de haces fraccionario. Cuando el cambio de fase es modificado, nos permite visualizar el proceso de cambio de la geometría. Observamos patrones cuasi-lineales, circulares concéntricos de máximos y mínimos. Algunas aplicaciones de estos patrones pueden encontrarse en sensores y grabado en procesos de litografía.
其他摘要：Multiple periodic patterns by light interference are a complicated problem from an experimen - tal point of view. We report a theoretical model of the incidence of N beams of light at one point in space. Two components of the electric field are projected: azimuthal (angle formed with the projection of the vector in space on the x-y plane) and zenithal (angle of the incident vector with the z -axis). As a result, azimuthal intensity and zenithal intensity are found. The case of fractional amplitude or fractional number of beams is analyzed. When the phase is modified, the process allows us to visualize the change of geometry. Quasi-lineal patterns to maximum and minimum concentric circles are observed. Some applications of these patterns can be found in sensors and engraving in some lithography processes.
