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1篇

出版年度

1991

1篇

作者

	Chun, Chang-Hwan	1篇
	Kim, Geun-Hong	1篇
	Lee, Gyeong-Su	1篇
	Nam, Kee-Soo	1篇

来源期刊

ETRI Journal

1篇

学科主题

	应用物理学	1篇
	电信	1篇

语种

英文

1篇

国别/地区

韩国

1篇

检索条件:"( ( 高级检索(( ((AU:(("Chun, Chang-Hwan")))) )) ) )"

共 1 条记录

排序：全选导出：

1.Effect of Annealing on the Dielectric Properties and Microstructures of Thin Tantalum Oxide Film Deposited with RF Reactive Sputtering

作　　者：Lee, Gyeong-Su ;Nam, Kee-Soo ;Chun, Chang-Hwan 等

出　　处：ETRI Journal. 1991 ;13(2):21-27.

出版社：Electronics and Telecommunications Research Institute

文章 ID：114422106

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