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2篇

出版年度

	2004	1篇
	2002	1篇

作者

	Kim, Byung-Whan	2篇
	Bae, Yoon-Kyu	1篇
	Kim, Bo-Woo	1篇
	Kim, Dong-Won	1篇
	Kwon, Kwang-Ho	1篇

	Kwon, Sung-Ku	1篇
	Park, Gwi-Tae	1篇
	Park, Jong-Moon	1篇
	Park, Kun-Sik	1篇
	Yoo, Seong-Wook	1篇

来源期刊

ETRI Journal

2篇

学科主题

	应用物理学	2篇
	电信	2篇

语种

英文

2篇

国别/地区

韩国

2篇

检索条件:"( ( 高级检索(( ((AU:(("Kim, Byung-Whan")))) )) ) )"

共 2 条记录

排序：全选导出：

1.A Plasma-Etching Process Modeling Via a Polynomial Neural Network

作　　者：Kim, Dong-Won ;Kim, Byung-Whan ;Park, Gwi-Tae

出　　处：ETRI Journal. 2004 ;26(4):297-297.

出版社：Electronics and Telecommunications Research Institute

文章 ID：114421694

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2.Characterization of Via Etching in $CHF_3/CF_4$ Magnetically Enhanced Reactive Ion Etching Using Neural Networks

作　　者：Kwon, Sung-Ku ;Kwon, Kwang-Ho ;Kim, Byung-Whan 等

出　　处：ETRI Journal. 2002 ;24(3):211-211.

出版社：Electronics and Telecommunications Research Institute

文章 ID：114421838

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