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1篇

出版年度

2002

1篇

作者

	Han, Young-Tak	1篇
	Kim, Dong-June	1篇
	Kim, Je-Ha	1篇
	Park, Sang-Ho	1篇
	Park, Soo-Jin	1篇

	Shin, Jang-Uk	1篇
	Sung, Hee-Kyung	1篇

来源期刊

ETRI Journal

1篇

学科主题

	应用物理学	1篇
	电信	1篇

语种

英文

1篇

国别/地区

韩国

1篇

检索条件:"( ( 高级检索(( ((AU:(("Kim, Dong-June")))) )) ) )"

共 1 条记录

排序：全选导出：

1.An Etch-Stop Technique Using $Cr_2O_3$ Thin Film and Its Application to Silica PLC Platform Fabrication

作　　者：Shin, Jang-Uk ;Kim, Dong-June ;Park, Sang-Ho 等

出　　处：ETRI Journal. 2002 ;24(5):398-398.

出版社：Electronics and Telecommunications Research Institute

文章 ID：114421823

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