首页期刊浏览 2025年02月23日星期日

登录注册

全文

有本地全文

2篇

出版年度

2015

2篇

作者

	Hiroshi Ito	2篇
	Kentaro Kawaguchi	2篇
	Momoji Kubo	2篇
	Nobuki Ozawa	2篇
	Takuya Kuwahara	2篇

Yuji Higuchi

2篇

文章类型

Research Article

1篇

来源期刊

Scientific Reports

2篇

学科主题

自然科学总论

2篇

语种

英文

2篇

国别/地区

英国

2篇

检索条件:"( ( 高级检索(( ((AU:(("Takuya Kuwahara")))) )) ) )"

共 2 条记录

排序：全选导出：

1.The reason why thin-film silicon grows layer by layer in plasma-enhanced chemical vapor deposition

作　　者：Takuya Kuwahara ;Hiroshi Ito ;Kentaro Kawaguchi 等

出　　处：Scientific Reports. 2015 ;5.doi:10.1038/srep09052

出版社：Springer Nature

文章 ID：110737974

文章详细全文下载
2.The reason why thin-film silicon grows layer by layer in plasma-enhanced chemical vapor deposition

作　　者：Takuya Kuwahara ;Hiroshi Ito ;Kentaro Kawaguchi 等

出　　处：Scientific Reports. 2015 ;5(1).doi:10.1038/srep09052

出版社：Springer Nature

文章 ID：235883065

文章详细全文下载

1

电话：010-85195300

E-mail：cassoa@cass.org.cn

地址：中国北京建国门内大街5号中国社会科学院1#楼

扫一扫关注微信

联系我们|关于我们|网站声明

国家哲学社会科学文献中心版权所有