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2篇

出版年度

	1994	1篇
	1991	1篇

作者

	Park, Hyung-Ho	2篇
	Chang, Dong-Hun	1篇
	Cho, Kyoung-Ik	1篇
	Kang, Young-Il	1篇
	Kim, Jeong-Soo	1篇

	Koak, Byung-Hwa	1篇
	Kwon, Kwang-Ho	1篇
	Kwon, Oh-Joon	1篇
	Lee, Hee-Tae	1篇
	Lee, Sang-Hwan	1篇
	Lee, Yong-Tak	1篇
	Nahm, Sahn	1篇
	Oh, Dae-Gon	1篇
	Yu, Ji-Beom	1篇

来源期刊

ETRI Journal

2篇

学科主题

	应用物理学	2篇
	电信	2篇

语种

英文

2篇

国别/地区

韩国

2篇

检索条件:"( ( 高级检索(( ((AU:(("Park, Hyung-Ho")))) )) ) )"

共 2 条记录

排序：全选导出：

1.A Study on Modified Silicon Surface after $CHF_3/C_2F_6$ Reactive Ion Etching

作　　者：Park, Hyung-Ho ;Kwon, Kwang-Ho ;Lee, Sang-Hwan 等

出　　处：ETRI Journal. 1994 ;16(1):45-45.

出版社：Electronics and Telecommunications Research Institute

文章 ID：114422025

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2.유기금속증착법에 의한 $IN_1-x$$Ga_x$$As_y$$P_1-y$/INP의 성장시 성장변수가 에피층의 전기적, 광학적 특성에 미치는 영향

作　　者：Yu, Ji-Beom ;Kim, Jeong-Soo ;Chang, Dong-Hun 等

出　　处：ETRI Journal. 1991 ;13(4):70-79.

出版社：Electronics and Telecommunications Research Institute

文章 ID：114422099

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